5min看懂高效抗敏、止癢、修復新原料——MHA Micro

       受外界環境變化、使用不良化妝品或不良的清潔習慣等影響，肌膚屏障會出現不同程度受損，也變得越來越敏感和脆弱，為了更好地呵護您的肌膚，我司重點推出明星舒緩修復新原料。

       INCI：羧甲基脫乙酰殼多糖

       建議添加量：0.05%-0.25%

       特性一：快速止癢

       特性二：高效抗炎

       常見抗炎原料細胞水平效果比較（化妝品配方中添加量為細胞水平的10倍）

       特性三：快速修復

實驗方法詳見醫工院報告；

       應用：

       常規產品：避免接觸性皮炎患者使用后出現皮膚紅腫瘙癢現象。

       （用量：0.05%-0.1%）

       舒敏產品：緩解用戶皮膚過敏癥狀，例：緊急修護精華。

       （用量：0.25%）

       醫美產品：脈沖光、射頻、點陣、果酸等醫學美容術后的抗敏感及抗炎癥產生，快速修復基底熱損傷，避免造成術后敏感。

       （用量：0.25%）

       敏感性肌膚護理產品：有效降低敏感肌客戶皮膚炎癥發生概率。

       （用量0.1%-0.2%）

       功能性產品（防曬，美白）：降低如防曬劑、熊果苷等功能性原料引起過敏概率。

       （用量0.05%-0.1%）

       止癢產品：止癢噴霧。

       （用量：0.15%-0.2%）

       抗衰老產品：高端修復精華，吸收皮膚自由基，防止氧化。

       （用量：0.1%-0.2%）

       祛痤瘡修復產品：促進祛痘后疤痕修復，避免留下痘印。

       （用量0.1%-0.2%）

       卸妝產品：對于經常涂抹粉底，BB霜肌膚能起到吸附排泄皮下深層重金屬作用。

       （用量0.1%-0.2%）